半导体晶圆全自动多槽式超声波精密清洗机案例

某半导体厂在生产硅片与芯片过程中，对洁净度要求极高。人工与单槽清洗难以达到国际标准。
我司为客户设计了全自动多槽式超声波精密清洗机，配置超声波清洗、超纯水漂洗、热风干燥等工序，全自动机械手搬运，避免人工接触污染。
设备运行后，晶圆表面颗粒大幅减少，清洁度达到国际半导体标准，良品率提升30%。